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生產(chǎn)集成電路的簡(jiǎn)要步驟： 利用模版去除晶圓表面的保護(hù)膜。 將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后形成電路。 用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)。 其中曝光機(jī)就是利用紫外線(xiàn)通過(guò)模版去除晶圓表面的保護(hù)膜的設(shè)備。 一片晶圓可以制作數(shù)十個(gè)集成電路，根據(jù)模版曝光機(jī)分為兩種： 模版和晶圓大小一樣，模版不動(dòng)。 模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機(jī)聚焦部分移動(dòng)。 其中模版隨曝光機(jī)移動(dòng)的方式，模版相對(duì)曝光機(jī)中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為的主流 [1] 。 主要廠(chǎng)商編輯 曝光機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只有少數(shù)廠(chǎng)家掌握。因此曝光機(jī)價(jià)格昂貴，通常在 3 千萬(wàn)至 5 億美元。 ASML 尼康 佳能 歐泰克 上海微電子裝備 SUSS ABM, Inc. 品牌編輯 光刻機(jī)的品牌眾多，根據(jù)采用不同技術(shù)路線(xiàn)的可以歸納成如下幾類(lèi)： 高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機(jī)號(hào)稱(chēng)世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺(tái)的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱(chēng)現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來(lái)自德國(guó)），日本Nikon（intel曾經(jīng)購(gòu)買(mǎi)過(guò)Nikon的高端光刻機(jī)）和日本Canon三大品牌為主。 位于我國(guó)上海的SMEE已研制出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷(xiāo)售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。
生產(chǎn)線(xiàn)和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī)，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國(guó)SUSS、美國(guó)MYCRO NXQ4006、以及中國(guó)品牌。 分類(lèi)編輯 光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡(jiǎn)便性分為三種，手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng) A 手動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式，是通過(guò)手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來(lái)完成對(duì)準(zhǔn)，對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不高了； B 半自動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過(guò)電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧； C 自動(dòng)： 指的是 從基板的上載下載，曝光時(shí)長(zhǎng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制，自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿(mǎn)足工廠(chǎng)對(duì)于處理量的需要。 紫外光源編輯 曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。 常見(jiàn)光源分為: 可見(jiàn)光：g線(xiàn)：436nm 紫外光（UV），i線(xiàn)：365nm 深紫外光（DUV）,KrF 準(zhǔn)分子激光：248 nm, ArF 準(zhǔn)分子激光：193 nm 極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm 對(duì)光源系統(tǒng)的要求 a.有適當(dāng)?shù)牟ㄩL(zhǎng)。波長(zhǎng)越短，可曝光的特征尺寸就越?。籟波長(zhǎng)越短，就表示光刻的刀鋒越鋒利，刻蝕對(duì)于精度控制要求越高。]
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