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勻膠顯影機(jī)一般由四部分組成。第一部分是晶圓盒工作站（wafer cassette station），晶圓盒在這里裝載到機(jī)器上。機(jī)械手（robot arm）從晶圓盒中把晶圓抽出來(lái)，傳送到工藝處理部分（process block），即第二部分。工藝處理部分是勻膠顯影機(jī)的主體，增粘模塊（adhesion enhancement）、熱盤（hot plate）、冷盤（chill plate）、旋涂、顯影等主要工藝單元都安裝在這里，一個(gè)或兩個(gè)機(jī)械手在各單元之間傳遞晶圓。第三部分是為浸沒(méi)式光刻工藝配套的單元，包括晶圓表面水沖洗單元、背清洗單元等。第四部分是和光刻機(jī)聯(lián)機(jī)的接口界面（interface），包括暫時(shí)儲(chǔ)存晶圓的緩沖盒（buffer）、晶圓邊緣曝光（wafer edge exposure，WEE）和光刻機(jī)交換晶圓的接口等。