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顯影工藝和設(shè)備
來源:
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作者:pmoe2a7d5
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發(fā)布時間: 2025-03-25
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顯影機(jī)理
顯影一詞也用于金屬機(jī)身相機(jī)（銀鹽照片），在光刻工藝中其含義略有不同。在光刻工藝中，負(fù)性光刻膠被光照射，發(fā)生聚合反應(yīng)的部分已經(jīng)是圖像；而正性光刻膠的情況，被光照射的部分
是水溶性的，沒有被光照射的地方不需要通過顯影進(jìn)行放大處理，就會留下圖形。由于曝光就能產(chǎn)生可見的圖形，因此成為“顯影”。光刻時，負(fù)性光刻膠的情況下，顯影是去除沒有發(fā)生聚合反
應(yīng)的部分，正性光刻膠的情況下，顯影是溶解被光照射的部分。
顯影工藝和設(shè)備
負(fù)性光刻膠顯影液主要使用二甲苯、乙酸丁酯，正性光刻膠顯影液主要使用氫氧化銨。總之，顯影也是一種濕法工藝。正性光刻膠是微細(xì)化工藝的選擇，因此，半導(dǎo)體代工廠使用的是正性
光刻膠的顯影設(shè)備，顯影設(shè)備液類似于旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)，由于顯影后需要沖洗，故顯影設(shè)備裝配有顯影液和沖洗液噴霧。顯影設(shè)備不是獨(dú)立存在的，涂膠機(jī)、曝光機(jī)、顯影設(shè)備常常需系統(tǒng)化布置，
工藝流程也按照此順序進(jìn)行，也被稱為連續(xù)化（In-Line）。
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